定制半导体清洗机

自动供酸系统（CDS）

设备用途：本系统主要用于湿法刻蚀清洗等工序需要使用的刻蚀液集中进行配送，经管道配送至设备；具有自动化程度高、配比精确、操作简便等特点，而且具有良好的耐腐蚀性。

适用对象：HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPA等

控制模式：手动控制模式、自动控制模式

全自动去磷硅玻璃酸洗（PSG）设备

设备用途：主要用于光伏太阳能电池片扩散后去磷硅玻璃的清洗处理；是一条集清洗、腐蚀、干燥等工艺处理为一体的全自动综合工艺处理线

适用对象：125*125,156*156兼容 ≥1600片/小时

控制模式：手动控制模式、全自动控制模式

全自动Si电池片制绒酸洗设备

设备用途：主要用于光伏太阳能Si电池片的清洗处理；是一条集预清洗、去损伤、制绒、酸腐蚀等工艺处理为一体的全自动综合工艺处理线

适用对象：125*125,156*156兼容 ≥1600片/小时

控制模式：手动控制模式、全自动控制模式

**溶剂清洗机

制程应用：**溶液剥离工艺、去光阻清洗工艺、去胶清洗工艺、ACE清洗工艺、ICP清洗工艺、去蜡清洗工艺灯

控制模式：手动控制模式、自动控制模式

半自动石英管机

设备用途：本设备为浸泡式清洗机，用于扩散、外延等设备的石英管、碳化硅管的清洗

控制模式：手动控制模式、自动控制模式